【浸润式光刻模组技术详解】
“我擦？”
陈腾的呼吸变得急促与沉重起来。
居然是这个？
在让人研究光刻机之后，陈腾本人对光刻机也有一定程度的了解。
duv浸润式光刻机，大致可以分成六个模组。
掩膜版传送模组、晶圆传送模组、照明模组、投影物镜模组、浸润式光刻模组、双晶圆平台模组。
这六个模组当中，难度最大的就是浸润式光刻模组。
这个模组，也是浸润式光刻机名字的由来。
聊到浸润式光刻模组，那就不得不聊一下投影物镜模组与光刻机的原理。
简单概括一下，光刻机的原理就是利用紫外光，在晶圆上进行雕刻。
投影物镜的作用，就是将照明模组发射出的紫外光收进物镜内，并聚焦成像在晶圆上。
一般来说，由瑞利公式可以得出结论。
投影物镜是越粗，最后制造出来的芯片性能就会更高。
但是投影物镜要是太粗，又会发生全反射现象，紫外光就无法在晶圆上聚焦了。
换而言之，物镜不够粗，芯片性能就不行。
物镜太粗，直接造不出来了。
这个时候，有人提出了一个天才般的想法。
在晶圆上滴一滴水。
水折射率更高，更不容易发生全反射现象。
这样一来物镜就能做的更粗，造出的芯片就更强。
这也就是浸润式光刻机这个名字的由来。
将晶圆用水浸润了嘛。
但这又面临了一个巨大的问题。
晶圆成像时温度会升高，需要流动的水来进行降温。
但在成像过程中，又要求这流动的水能像光学镜头一样光滑，不能有扰动。
出现扰动会怎么样？
晶圆会报废。
所以这“水”，其实不是一般的水。
这个难题，一直都有困扰着腾达研发中心甚至是全世界相关领域的专家。
腾达研发中心虽有进度，但是进度很慢。
当初黎星若向陈腾提出光刻机制造过程中的难点