嚓噗小说 > 其他类型 > 一荣俱荣陈星陈亚鹏 > 第二百零三章 喜报频传,芯片材料遥遥领先(6/6)


    “我明白了。”

    杨烈点了点头。

    在叮嘱完杨烈韩铭,以及龙兴硅业的其他人才后,陈星便来到了隔壁不远处的龙兴化工厂。

    化工厂不同于硅业工厂,这里弥漫着刺鼻的味道。

    破解光刻胶,以及配套试剂应有的成分,这对于科研工程师来说只能不断尝试。

    早早在门口等待的朱明月见陈星到来,立马递上过滤口罩道:“总裁快请进。”

    陈星接过口罩戴上,便跟随他走进化工厂。

    化工厂真不比硅业工厂,刺鼻的味道闻久了都感觉会折寿,全是化学试剂的刺鼻味。

    在穿过调配区,朱明月带陈星来到了他的办公室,关上房门并打开过滤抽风机。

    不一会。

    两人都摘下了口罩。

    朱明月从办公室保险箱,拿出数瓶约摸550毫升罐装可乐大小的密封罐子道:

    “1号arf光刻胶,曝光波长:193n  i,技术节点及应用:n40n-7n  ptd  l/s,工艺能力cd:0063u,工艺能力thk:016-024u。”

    “翻译一下。”

    虽然陈星是重生者,又带有国产之光系统,但这并不代表他是万能的,光刻胶他可没学过。

    朱明月闻言,淡淡一笑解释道:“曝光波长193纳米,说明它支持193深紫外光,也就是duv光刻机的曝光,技术节点及应用n40纳米-7纳米  ptd  l/s,可用于40纳米到7纳米芯片的生产。”

    “工艺能力cd:0063u是分辨率,而工艺能力thk:016-024u则是涂抹厚度。”

    陈星理解能力很强,在听了讲解以后,立马抓住重点道:“也就是说,这是一款足以支持7纳米芯片生产使用的光刻胶?”

    “是的。”

    朱明月点了点头,继续抛出这款光刻胶的底细道:“因为考虑到我们没有euv光源,所以这款光刻胶曝光波长设计在193。”

    “如果要用一句话概括,那就是这款光刻胶是我专门为多重曝光技术而设计的产品。”